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米NY州に次世代ハイテク拠点-IBMとインテルが44億ドル投資へ

コンピューターサービス最大手の 米IBMと世界最大の半導体メーカー、米インテルが、ニューヨーク 州に次世代コンピューター半導体技術の中心拠点(ハブ)をつくるた め5年間に44億ドル(約3400億円)を投資する。クオモ州知事が発 表した。

IBMは、14・22ナノメートル処理技術を活用したコンピュータ ー半導体の開発に36億ドルを投じる。同社広報担当マイケル・ローラ ン氏が語った。ナノは10億分の1メートルで、数字が小さいほど技術 が進んでいることを意味する。

州知事事務所が配布した声明によれば、インテルとIBM、米グ ローバルファウンドリーズ、台湾積体電路製造(TSMC)、韓国のサ ムスン電子が300ミリメートルウエハー技術の450ミリメートル技術 への転換に焦点を絞る。今回の投資は同州にとって、新規の技術職2500 人を含め6900人分の雇用創出・確保につながるという。

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